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離子注入氣體（離子注入氣體）

* 來源: * 作者: * 發(fā)表時間: 2020/02/17 0:52:17 * 瀏覽: 69
離子注入氣體（GasesforIonImplantation）：離子注入將P +，B +，As +等離子化雜質(zhì)加速到高能態(tài)，然后將其注入到預(yù)定的襯底上。離子注入是控制Vth（閾值電壓）的最廣泛使用的方法。可以通過測量離子電流來獲得注入的雜質(zhì)。離子注入過程中使用的氣體稱為離子注入氣體，并且存在磷基，硼基和砷基氣體。